Please use this identifier to cite or link to this item: https://doi.org/10.15480/882.781
Fulltext available Open Access
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorMüller, Jörg-
dc.contributor.authorHarke, Alexander-
dc.date.accessioned2010-03-26T11:10:08Zde_DE
dc.date.available2010-03-26T11:10:08Zde_DE
dc.date.issued2010-
dc.identifier.other622706675de_DE
dc.identifier.urihttp://tubdok.tub.tuhh.de/handle/11420/783-
dc.description.abstractNeue Anwendungsgebiete für amorphes Silizium in der integrierten Optik werden entwickelt. Zunächst wird der Einfluss der Methode der Abscheidung sowie der Prozessparameter auf die Materialeigenschaften untersucht. Die Auswirkungen einer thermischen Nachbehandlung werden analysiert. Verlustarme, einmodige Wellenleiter werden hergestellt. Zudem wird Plasma-unterstützte Abscheidung aus der Gasphase genutzt, um dreidimensionale Taper mit Hilfe von Schattenmasken zu realisieren. Die Möglichkeit des Stapelns von Wellenleitern unter Anwendung eines Planarisierungsprozesses wird untersucht, und vertikales Koppeln zwischen den Wellenleitern wird simuliert, um Spezifikationen für die beteiligten Herstellungsprozesse abzuleiten. Darüberhinaus werden horizontal geschlitzte Wellenleiter hergestellt.de
dc.description.abstractNew fields of application for amorphous silicon in integrated optics are developed. First, the influence of deposition method and process parameters on the material properties is investigated. The effects of thermal treatments are analyzed. Low-loss, monomode waveguides are fabricated. Then, a low-temperature PECVD process is used to realize a three-dimensional taper concept with shadow masks. The feasibility to stack waveguides application of a planarization process is studied, and vertical coupling between waveguides is simulated in order to estimate process specifications. Furthermore, waveguides with horizontal slots are fabricated.en
dc.language.isoende_DE
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
dc.rights.urihttp://doku.b.tu-harburg.de/doku/lic_ohne_pod.phpde
dc.subjectamorphes Silizium, Integrierte Optik, optische Wellenleiterde_DE
dc.subjectamorphous silicon, integrated optics, waveguidesde_DE
dc.titleAmorphous silicon for the application in integrated opticsde_DE
dc.title.alternativeAmorphes Silizium zur Anwendung in der integrierten Optikde
dc.typeThesisde_DE
dcterms.dateAccepted2010-02-15-
dc.date.updated2010-04-12T09:15:31Zde_DE
dc.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:830-tubdok-8670de_DE
dc.identifier.doi10.15480/882.781-
dc.type.thesisdoctoralThesisde_DE
dc.type.dinidoctoralThesis-
dc.subject.bcl50.37:Technische Optikde
dc.subject.bcl51.32:Werkstoffmechanikde
dc.subject.gndAmorpher Halbleiter ; Silizium ; integriert-optisches Bauelement ; Lichtwellenleiter ; PECVD-Verfahrende
dc.subject.bclcode51.32-
dc.subject.bclcode50.37-
dc.subject.ddccode530-
dcterms.DCMITypeText-
tuhh.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:830-tubdok-8670de_DE
tuhh.publikation.typdoctoralThesisde_DE
tuhh.publikation.fachbereichElektrotechnik und Informationstechnikde_DE
tuhh.opus.id867de_DE
tuhh.gvk.ppn622706675de_DE
tuhh.oai.showtruede_DE
tuhh.pod.allowedfalsede_DE
dc.identifier.hdl11420/783-
tuhh.title.germanAmorphes Silizium zur Anwendung in der integrierten Optikde
tuhh.abstract.germanNeue Anwendungsgebiete für amorphes Silizium in der integrierten Optik werden entwickelt. Zunächst wird der Einfluss der Methode der Abscheidung sowie der Prozessparameter auf die Materialeigenschaften untersucht. Die Auswirkungen einer thermischen Nachbehandlung werden analysiert. Verlustarme, einmodige Wellenleiter werden hergestellt. Zudem wird Plasma-unterstützte Abscheidung aus der Gasphase genutzt, um dreidimensionale Taper mit Hilfe von Schattenmasken zu realisieren. Die Möglichkeit des Stapelns von Wellenleitern unter Anwendung eines Planarisierungsprozesses wird untersucht, und vertikales Koppeln zwischen den Wellenleitern wird simuliert, um Spezifikationen für die beteiligten Herstellungsprozesse abzuleiten. Darüberhinaus werden horizontal geschlitzte Wellenleiter hergestellt.de_DE
tuhh.abstract.englishNew fields of application for amorphous silicon in integrated optics are developed. First, the influence of deposition method and process parameters on the material properties is investigated. The effects of thermal treatments are analyzed. Low-loss, monomode waveguides are fabricated. Then, a low-temperature PECVD process is used to realize a three-dimensional taper concept with shadow masks. The feasibility to stack waveguides application of a planarization process is studied, and vertical coupling between waveguides is simulated in order to estimate process specifications. Furthermore, waveguides with horizontal slots are fabricated.de_DE
tuhh.publication.instituteMikrosystemtechnik E-7de_DE
tuhh.identifier.doi10.15480/882.781-
tuhh.type.opusDissertation-
tuhh.institute.germanMikrosystemtechnik E-7de
tuhh.institute.englishMicrosystem Technology E-7en
tuhh.institute.id41de_DE
tuhh.type.id8de_DE
thesis.grantorTechnische Universität Hamburgde
tuhh.gvk.hasppntrue-
dc.type.driverdoctoralThesis-
dc.identifier.oclc930768785-
thesis.grantor.universityOrInstitutionTechnische Universität Hamburgde_DE
thesis.grantor.placeHamburgde_DE
thesis.grantor.departmentMicrosystem Technology E-7de
dc.type.casraiDissertation-
item.languageiso639-1en-
item.grantfulltextopen-
item.openairetypeThesis-
item.advisorGNDMüller, Jörg-
item.cerifentitytypePublications-
item.creatorOrcidHarke, Alexander-
item.fulltextWith Fulltext-
item.creatorGNDHarke, Alexander-
item.openairecristypehttp://purl.org/coar/resource_type/c_46ec-
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